测试广告1 改造火星毫无疑问需要的是技术以及金钱的支撑,这两者缺一不可。599小说网 http://m.xs599.com
经过漫长的时间之后,如果能改造成功,毫无疑问火星就会属于张星辰了,不管别人承认也好,不承认也好。
张星辰有能力改造也有能力上去,别人呢,或者说别地国家呢?
或许,其他国家连送人去火星都办不到呢,而张星辰这里已经完成了火星的改造,想想一个人独占一个星球的美好,想到张星辰的嘴角都忍不住往上轻俏。
……
自己生产硅晶圆片仅仅是第一步,接下来的第二步就是自己制造光刻机,其是高端光刻机。
可以自己制造光刻机之后,那么生产芯片的整个流程星辰公司可以说都掌握了,从设计芯片到制造硅晶圆片到生产芯片整个流程,上流中流,下流都可以完成了,独自完成,再也不用依靠别人。
说起光刻机来,其实光刻机有很多名字。比如说光刻系统,比如说曝光系统,比如说掩模对准曝光机等等,其实他们说的都是一个设备,那就是光刻机。
光刻机是生产芯片最关键的一种设备,可以说没有光刻机,就生产不出来芯片。
光刻机的工作原理非常简单,和以前照片冲印的技术类似,只不过精密度有一定的差别。
可以说光刻机的精密度非常的高,已经达到纳米级别。
可以毫不夸张地说高端的光刻机是这个世界上最精密的仪器,被称作现代光学工业之花,其中没有一点水分,货真价实。
从这个称呼来看,我们就可以从侧面反映出光合机的精密度以及价值,高端的光刻机的价格非常昂贵,可以卖到5亿米元。
当然这不仅仅是金钱的关系,有时候你就算有钱,人家也不愿意卖给你。
因为外国人害怕我们买回去之后研究,然后可以自己制造出来,毕竟我们国家的逆向推理能力还是非常强的。
现在能知道高端高科技的企业都是外国企业呀,其中最出名的就是三个企业,三个企业就是荷兰的asml,岛国的ai kun以及岛国的acon。
这三大企业当中,岛国占据两个,我们可以从这方面可以发现岛国在光刻机上是非常强大的。
虽然我们有历史原因非常仇视岛国,但是我们不得不承认他们强大,不得不正视他们的强大,我们需不需要盲目地自大,也不需要盲目地自卑。
我们要正视自己,也要正视敌人,认清自己,也认清认清楚敌人,这样做到知己知彼才能百战不殆。
此时的落后不可怕,可怕的是一直在落后,我们知道自己不如别人之后,这样才能追上敌人,甚至超越敌人。
而且因为星晨公司的存在,相信用不了多长时间,我们在芯片上的能力。就会超越岛国超过asml,甚至把他们远远甩在身后。
到时候我们国家就会成为芯片大国,也是芯片强国。
芯片是在硅晶圆片上镌刻出来的,想要制造芯片,首先我们要准备好一张硅晶圆片,然后我们在硅晶圆片上面涂抹上光刻胶。
把涂抹好光刻胶的硅晶圆片放在光刻机的平台上,光刻胶的上方会有一个掩模,掩模的上面就是紫外光线发射器。
当光刻机开始工作的时候,紫外光线发射器会发射出紫外光线,紫外光线透过掩模就会照射到光刻胶上。
在掩模上,有着已经事先设计好的电路线图,光刻机释放出来的紫外光线透过掩模上的缝隙,通过缝隙的紫外光线会照射在光刻胶上。
那么接受紫外光线照射的光刻胶就会融化。因此在光刻胶上形成了电路图案。
但是这里要注意,这里仅仅是在光刻胶上形成了图案,我们最终的目的是在硅晶圆片上形成电路线图。
随后我们把硅晶圆片放入到腐化剂上,这样在没有光刻胶保护的地方就会被腐化剂给腐蚀掉,从而在硅晶圆片上留下电路。
等电路图形成之后,用纯净水清洗表面就可以,去除杂质。
这个过程就像拿着手电筒照一个拥有漏洞的图案,这个漏洞是什么,就会在背后的墙上形成什么样的图案一样。
原理是一样的,主要是看精密度。
光刻机的精密度是纳米级别的。
如果仅仅说纳米级别,大家是感受不出来它的精密度到底有多么精密?
在这里可以打一个形象的比喻,大家都知道头发丝的厚度,如果不知道,我们可以从自己的头上拔一个看看。
纳米级别的精密度就是一根头发丝的五千分之一这么细。
想想吧,我们的一根头发分成5000份,纳米级别就是其中的五千分之一。
而光刻机的误差仅仅在两纳米之内。
光刻机有两个工作平台,这两个工作平台要保持同步,这就是所谓的机械精度,机械精度的误差也在两个纳米之内。
这两个工作平台一个是放硅晶圆片的,一个释放掩模的。
在光刻机上紫外光线发射器是不动的,而两个工作平台是同时移动的,这样可以提高芯片的成品率,但是对设备要求非常高。
当然啦,光刻机不仅仅机械精密要求高,而且对于光源的要求也是非常高,里边儿蕴含着光学系统也是无比的复杂。
光刻机的光源有duv,也有euv.
所谓的euv也就是极紫外光。
光刻机里面用极紫外光的,光刻机被称作euv光刻机,可以说这是世界上最先进的光刻机,能生产五纳米乃至三纳米的芯片,掌握这种技术的仅仅只有米国一个国家。
我们国家也可以生产光刻机,但是精密度却没有那么高,我们自己生产的光刻机。被称作600系列光刻机。
它可以生产90纳米的芯片,是长城电子设备公司制造出来的,而外国的高科技也能生产五纳米的芯片了。
两者相比较,我们可以看出双方之间的差距来还是非常大的,这可不仅仅是一代的差距。是数代的差距。
要知道光刻机的精密度90纳米是一个难关,过了这难关之后,将密度进一步提升是非常容易的,前面一路舒坦。一直到45纳米才会遇见关卡。
过了45纳米这一关之后,下一关就是22纳米了……
后边还有很多关卡,我们自己制造的光刻机仅仅能制造90纳米的芯片,不过我们通过购买国外淘汰的光刻机,现在我们的中芯国际可以制造14纳米的芯片了。
事实就是这样,国外永远不会卖给我们最先进的东西。测试广告2
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